Формирование электродного осадка в гальваностатических условиях

В. А. Исаев, О. В. Гришенкова, М. В. Лаптев, А. В. Исаков, Ю. П. Зайков

АННОТАЦИЯ

Рассмотрены закономерности формирования сплошного слоя осадка при заданном постоянном токе. Проанализированы уравнения для расчета временных зависимостей перенапряжения при мгновенной нуклеации с кинетическим или диффузионным контролем роста новой фазы. Полученные теоретические зависимости сопоставлены с экспериментальными для электроосаждения кремния из фторидно-хлоридного расплава.

КЛЮЧЕВЫЕ СЛОВА:

электрокристаллизация, гальваностатический метод, нуклеация, рост, сплошной слой, расплав.

Размещено в моделирование, электрохимия.

Добавить комментарий

Ваш адрес email не будет опубликован. Обязательные поля помечены *