Рафинирование расплавов технического кремния в электрическом поле в гелии

А. В. Кайбичев, И. А. Кайбичев

АННОТАЦИЯ

Рассмотрены распространенные способы очистки расплавов кремния. Обосновано удаление примесей в электрическом поле. Оценено влияние состава, температуры, чистоты гелия, прошедшего электричества и напряженности электрического поля. Установлено удаление многоатомных и многомолекулярных ионов в электрическом поле. Определен относительный вклад межэлектродного переноса и испарения в очистку кремния.

КЛЮЧЕВЫЕ СЛОВА

испарение, межэлектродный перенос, расплав, полярность, атомная масса, ионы, очистка.

DOI: 10.1134/S0235010619040066

Размещено в Si, расплавы солей, электрохимия.

Добавить комментарий

Ваш адрес email не будет опубликован. Обязательные поля помечены *